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CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀，是電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。觸摸屏操控，配方可編程，保證結(jié)果可重復(fù)；具有斷電時系統(tǒng)自動排氣功能，防止系統(tǒng)被機械泵油污染。標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置；主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運行時間；在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之后，可選對樣品進行等離子刻蝕處理，以增加薄膜的附著力或?qū)δ颖砻孢M行改性。

CCU-010 LV_CT-010精細真空鍍膜系統(tǒng)專為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量鍍碳而設(shè)計。緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新標(biāo)桿。將該頭插入CCU-010 LV鍍膜主體后，即可立即使用，適合SEM/EDS等需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場合。

CCU-010 LV普通真空鍍膜系統(tǒng)專為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計。它是一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設(shè)計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可選進行等離子處理。模塊化設(shè)計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。專有的自動碳源卷送設(shè)計–多達數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運行時間。

CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統(tǒng)專為滿足電鏡樣品制備領(lǐng)域及材料科學(xué)薄膜應(yīng)用的最高要求而設(shè)計。CCU-010 HV 高真空濺射儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設(shè)計，可在超高分辨率應(yīng)用中提供出色的結(jié)果。 標(biāo)配抽真空系統(tǒng)完全無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內(nèi)部。標(biāo)配FTM膜厚監(jiān)測裝置。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運行時間。

CCU-010 HV_CT-010為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的熱蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡便。采用獨特的插入式設(shè)計，變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之前和/或之后，可以進行等離子處理(可選項)。模塊化設(shè)計可輕松避免交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。專有的自動卷送碳源設(shè)計–多達數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)。

CCU-010 HV為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用獨特的插入式設(shè)計，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可選進行等離子處理。模塊化設(shè)計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置。專有的自動碳源卷送設(shè)計–多達數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運行時間。